| 发明名称 |
PHOTORESISTS COMPRISING IONIC COMPOUND |
| 摘要 |
조사선-비민감성 이온성 화합물을 포함하는 성분을 함유하는 신규 포토레지스트 조성물이 제공된다. 본 발명의 바람직한 포토레지스트는 광산-불안정기를 갖는 수지; 광산 발생제 화합물; 및 포토레지스트 코팅층의 비노광 영역으로부터 바람직하지 않은 광발생된-산의 확산을 감소시키도록 기능할 수 있는 조사선-비민감성 이온성 화합물을 포함할 수 있다. |
| 申请公布号 |
KR101629766(B1) |
申请公布日期 |
2016.06.14 |
| 申请号 |
KR20130130549 |
申请日期 |
2013.10.30 |
| 申请人 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 |
发明人 |
포레르스 게르하르트;류콩;수 쳉-바이;우 춘이 |
| 分类号 |
G03F7/038;G03F7/039;G03F7/26;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
