| 发明名称 |
Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1522892(B1) |
申请公布日期 |
2007.08.29 |
| 申请号 |
EP20030078191 |
申请日期 |
2003.10.09 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
FRANKEN, DOMINICUS J. P. A. |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B7/00;G02B7/182;G02B7/198;G03B27/52;G21K1/06;G21K5/00;G21K5/02;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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