| 发明名称 | 微元件制作方法 | ||
| 摘要 | 制作微元件的方法，首先利用具第一波长的光源对适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行曝光，对该适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行显影以得到感光区块，对感光区块进行热回流工艺以形成微元件。 | ||
| 申请公布号 | CN100465666C | 申请公布日期 | 2009.03.04 |
| 申请号 | CN200610006059.7 | 申请日期 | 2006.01.24 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 余政宏 |
| 分类号 | G02B3/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L31/0232(2006.01) | 主分类号 | G02B3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种制作微元件的方法，包括:利用一具第一波长的光源对一适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行曝光；对该适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行显影，得到多个感光区块；以及对所述感光区块进行一加热工艺以形成所述微元件，其中该第一波长小于该第二波长。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||