| 摘要 |
기판 프로세싱 챔버들의 인-시츄 세정을 위한 방법들 및 장치가 본원에서 제공된다. 기판 프로세싱 챔버는, 내측 용적을 에워싸는 챔버 본체; 챔버 본체에 제거 가능하게(removably) 커플링되고, 그리고 선택적으로 내측 용적을 제 1 배출구에 대해 개방하거나 제 1 배출구로부터 밀봉하도록(seal) 내측 용적에 유체적으로(fluidly) 커플링된 제 1 유동 채널을 포함하는 챔버 덮개; 선택적으로 내측 용적을 제 1 유입구에 대해 개방하거나 제 1 유입구로부터 밀봉하도록 내측 용적에 유체적으로 커플링된 제 2 유동 채널을 포함하는 챔버 플로어; 및 내측 용적에 배치되어 내측 용적과 유체 연통하는(in fluid communication with) 펌프 링 ― 펌프 링은, 하부 챔버에 유체적으로 커플링된 상부 챔버, 및 선택적으로 내측 용적을 제 2 배출구에 대해 개방하거나 제 2 배출구로부터 밀봉하도록 하부 챔버에 유체적으로 커플링된 제 2 배출구를 포함함 ― 을 포함할 수 있다. |
