发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE TRANSFER METHOD ABNORMAL TREATMENT UNIT DETERMINING METHOD AND COMPUTER STORAGE MEDIUM
摘要 처리부의 이상의 유무를 리얼타임으로 판단하고, 또한 불량품 웨이퍼가 다량으로 생산되는 것을 방지한다. 도포 현상 처리 장치는 웨이퍼 반송 기구와, 결함 검사부와, 웨이퍼의 반송을 제어하는 반송 제어 수단(200)과, 결함의 상태에 기초하여 상기 결함의 분류를 행하는 결함 분류 수단(203)과, 처리 유닛에 의해 웨이퍼가 처리될 때의 웨이퍼 반송 기구에 의한 웨이퍼의 반송 순로를 기억하는 기억 수단(202)과, 결함 분류 수단(203)에 의해 분류된 결함의 종류와 기억 수단(202)에 기억된 기판의 반송 순로에 기초하여, 상기 분류된 결함이 발생한 처리 유닛을 특정하는 결함 처리 특정 수단(204)과, 결함이 발생했다고 특정된 처리부의 이상의 유무를 판정하는 결함 처리 특정 수단을 가지고, 반송 제어 수단(200)은, 결함 처리 특정 수단(204)에 의해 이상으로 판정된 처리 유닛을 우회하여 웨이퍼를 반송하도록 웨이퍼 반송 기구의 제어를 행한다.
申请公布号 KR101670940(B1) 申请公布日期 2016.10.31
申请号 KR20110106852 申请日期 2011.10.19
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 하야카와 마코토;도미타 히로시;요시다 타츠헤이
分类号 H01L21/66;G01N21/956;H01L21/027 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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