发明名称 绝缘闸型半导体装置
摘要 【课题】本发明的最主要的特征在于针对功率MOSFET提供高速性能,且能够抑制切换杂讯。【解决手段】例如具备有:选择性地被形成在n-漂移层11之表面部的多个的p基极层12,分别被形成在各p基极层12的n^+源极层12,被形成在上述n^-漂移层11之背面侧的n^+漂移层15,连接到该n^+汲极层15的汲极21,连接到上述p基极层12以及上述n^+@源极层13的多个的源极22,经由闸绝缘膜23而被形成在源极22之间的闸极24,以及选择性地被设在位于该闸极24下方之上述n^-漂移层11的表面部,除了被连接到上述p基极层12之一者外,也具有较上述p基极层12为低之杂质的p层14。
申请公布号 TW200308096 申请公布日期 2003.12.16
申请号 TW092108822 申请日期 2003.04.16
申请人 东芝股份有限公司 发明人 斋藤涉;大村一郎;相田聪
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本