发明名称 用于金属及金属/介电结构之化学机械研磨之组成物
摘要 一种组成物,它包含:2.5~70%(体积)30wt%阳离子改性矽溶胶的,其阳离子改性二氧化矽颗粒的平均粒度介于12~300nm;以及0.05~22wt%至少一种氧化剂;且其pH值介于2.5~6,特别适合作为研磨浆用于金属和金属/介电结构的化学机械研磨。
申请公布号 TW200400239 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW091137401 申请日期 2002.12.26
申请人 拜耳厂股份有限公司 发明人 布洛雪;帕辛;蔡明莳
分类号 C09G1/02 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人 蔡中曾
主权项
地址 德国