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发明名称
用于金属及金属/介电结构之化学机械研磨之组成物
摘要
一种组成物,它包含:2.5~70%(体积)30wt%阳离子改性矽溶胶的,其阳离子改性二氧化矽颗粒的平均粒度介于12~300nm;以及0.05~22wt%至少一种氧化剂;且其pH值介于2.5~6,特别适合作为研磨浆用于金属和金属/介电结构的化学机械研磨。
申请公布号
TW200400239
申请公布日期
2004.01.01
申请号
TW091137401
申请日期
2002.12.26
申请人
拜耳厂股份有限公司
发明人
布洛雪;帕辛;蔡明莳
分类号
C09G1/02
主分类号
C09G1/02
代理机构
代理人
蔡中曾
主权项
地址
德国
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