发明名称 藉由等离子体增强化学气相沉积所沉积之聚合物抗反射涂层
摘要 提供一种将聚合物抗反射涂层涂覆于基板表面之改良方法及所得之前驱物结构。大体上,本方法包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)聚合物于基板表面上。此PECVD方法包括提供一数量之聚合物单体于一基板表面,该聚合物系藉由将单体蒸气导入等离子体状态,随后再于等离子体能量的助力之下产生聚合而产生。最佳的起始单体为苯基乙炔、4-乙炔基甲苯及1-乙炔基-2-氟苯。本发明之方法适用于在具有超次微米(0.25μm或更小)特征的大表面基板上提供高保角抗反射涂层。本方法提供远高于传统化学气相沉积(CVD)方法之沉积速率,且既环保又经济。
申请公布号 TW200400417 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW092110120 申请日期 2003.04.30
申请人 部鲁尔科学公司 发明人 莱姆W 萨伯尼斯
分类号 G03F7/025 主分类号 G03F7/025
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 美国