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发明名称 MONITORING METHOD OF HIGH ENERGY ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 KR0161420(B1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19950021394 申请日期 1995.07.20
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 OH, YONG-SUB;YUN, SOO-HAN;YUN, JAE-LIM;OH, SANG-KEUN
分类号 H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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