| 摘要 |
Un método para crear una película de carbono amorfo (DLC) sobre un substrato que consiste en la exposicion del substrato a un ambiente de hidrocarburos yen la generacion de plasma en ese ambiente con una densidad de electrones de más deaproximadamen te 5 x 1010 por cm3 y un espesor de revestimiento de menos deaproximadamente 2 mm en condiciones de flujo elevado de iones y un bombardeo de iones de baja energía controlado. Además, se provee un producto manufacturadoque tiene unsubstrato con una s uperficie y una película de carbono amorfo (DLC) sobre esa superficie, y dicha película tiene una dureza de más deaproximadamente 20 Gpa, y no se observan retículos cuyo diámetro es 300 mA o más cuando son examinados con unaumento de 50.000X en un m icroscopio electronicocon barrido por emision de campo. |
