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发明名称
基板处理装置以及清洁方法
摘要
本发明提供了一种基板处理装置及其清洁方法。在基板处理装置中,基板支撑构件包括在其上安装有基板的转头、转动接头以及用于供应溶液的供应管。该转动接头接收供应管供应的溶液并将此溶液供应到转头。转头具有为了喷射溶液而形成的至少一个喷射孔,并且在旋转时轴向地喷射溶液。因此,基板支撑构件能够将溶液提供到处理容器的内壁,以提高处理容器的清洁效率并且增加生产的产出。
申请公布号
TW200926277
申请公布日期
2009.06.16
申请号
TW097138927
申请日期
2008.10.09
申请人
细美事有限公司
发明人
崔忠植;吴来泽
分类号
H01L21/30(2006.01);B08B3/00(2006.01)
主分类号
H01L21/30(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
南韩
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