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发明名称
制造设备
摘要
本发明提供一种蒸发设备和蒸发方法,该蒸发设备是一种膜形成装置,并提供EL层膜厚的优异均匀性、优异生产率和EL材料的提高的利用效率。本发明的特征在于在蒸发期间其中设置封闭蒸发材料的容器的蒸发源固定器可以一定间距相对于基底移动。此外,膜厚监视器与用于移动之蒸发源固定器结合在一起。此外,藉由根据由膜厚监视器检测的值调整蒸发源固定器的移动速度,可以使膜厚均匀。
申请公布号
TW200402768
申请公布日期
2004.02.16
申请号
TW092119575
申请日期
2003.07.17
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
山崎舜平;村上雅一
分类号
H01L21/20
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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