修正光邻近效应的方法

摘要

一种在曝光过程中修正光邻近效应的方法,包括如下步骤:提取掩模互连图形的拐角部分;在提取的拐角部分的内拐角上提供默认“L”形图形;提取包括一对相邻的拐角部分的“]”形图形;调整“]”形图形中默认剪切块修正图形相对端点之间的距离,以具有规定的间隔。本方法防止所得互连的合成的“]”形图形的直边部分的宽度小于设计宽度。

主权项

1．一种修正光刻工艺中光邻近效应的方法，该光刻工艺使用具有掩模互连图形的掩模图形形成互连图形，所述方法包括步骤：在所述掩模互连图形中提取拐角部分；给所述提取的各拐角部分的内拐角上提供一个的默认的“L”形剪切块修正图形；计算相邻两个所述默认剪切块修正图形的引线相对端之间的第一距离，将第一距离与阈值距离进行比较，如果所述第一距离小于所述阈值距离，则修改所述默认剪切块修正图形，得到修改后的剪切块修正图形，以使所述修改后的剪切块修正图形的引线相对端之间的距离大体上等于所述阈值距离。