发明名称 分析与修正轨迹之方法
摘要 本发明揭示一种根据一轨迹所接触之一指定数量之纹理元素分析与修正该轨迹之方法,在一提供具有一解析度之纹理元素的图形系统中,最初决定该轨迹之尺度或形状。在该等指定数量之纹理元素的基础上且在该已决定之尺度或形状的基础上,指定与该轨迹有关之纹理元素之解析度。接着决定该图形系统是否提供具有该指定解析度之纹理元素。若该图形系统提供具有该指定解析度之纹理元素,则保存该轨迹。若该图形系统未提供具有该指定解析度之纹理元素,则选择由该图形系统提供且具有一相关解析度之纹理元素,且减少该轨迹之纹理元素,从而由具有一减小尺寸之该轨迹所接触纹理元素之数量系本质上等于或小于该指定数量。
申请公布号 TW200404266 申请公布日期 2004.03.16
申请号 TW092125239 申请日期 2003.09.12
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 汤姆斯 黑克尔;罗兰 瑞奇特
分类号 G06T15/10 主分类号 G06T15/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰