产生均匀处理率之方法及装置

摘要

揭示一种天线配置，用于在电浆处理装置的处理室之室壁内的电浆产生区，产生rf场分布。天线配置包含rf感应天线，rf电源会连接至rf感应天线以供应rf电流，产生延伸至电浆产生区中的第一rf场。也提供被动天线，其系感应地耦合至rf感应天线及配置成产生修改第一rf场的第二rf场。相较于无被动天线的情形，在电浆产生区的rf场分布会增加处理装置的处理均匀度。