具有标靶移动之电浆植入系统及方法

摘要

揭示一种电浆植入系统以及方法，其系当基板位于二或更多不同位置时将电浆中之离子植入到一半导体基板中。该半导体基板在植入过程中可移动以例如帮助补偿传送到该基板中剂量的不均匀性。此外，在基板植入过程之一部份期间一基板仅有一部份可被植入。在一相同电浆植入室中多个基板可同时进行植入处理，因此可以减少植入处理次数。