METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR SURFACE COVERED WITH FLUORINE

摘要

Erfindungsgemäss wird ein Verfahren zur Herstellung einer mit Fluor belegten Oberfläche bereitgestellt. Das erfindungsgemässe Verfahren umfasst die Schritte: a) ein Halbleitersubstrat in einer Reaktionskammer wird bereitgestellt; b) die Substratoberfläche wird mit Wasser und/oder Alkohol benetzt; c) eine fluorhaltige Verbindung wird zu der Substratoberfläche geführt, so dass eine gereinigte, mit Fluor belegte Halbleiteroberfläche erzeugt wird; d) die fluorhaltige Verbindung wird aus der Reaktionskammer entfernt; und e) die gereinigte, mit Fluor belegte Halbleiteroberfläche wird mit einer Mischung benetzt, die zumindest 10 Vol% Wasser und zumindest 10 Vol% Alkohol enthält, so dass eine gereinigte, mit einer vorbestimmten Menge an Fluor belegte Halbleiteroberfläche, erzeugt wird.