| 摘要 |
기판 처리 장치 (1) 는, 기판 유지부 (31) 와, 기판 유지부 (31) 를 기판 (9) 과 함께 회전시키는 기판 회전 기구 (32) 와, 기판 (9) 을 향하여 처리액을 공급하는 처리액 공급부 (5) 와, 회전하는 기판 (9) 으로부터 비산되는 처리액을 내주면 (412) 에서 받는 컵부 (4) 와, 기판 (9) 의 상방에 배치됨과 함께 기판 (9) 의 외주 가장자리보다 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 직경 방향 외측까지 확대되는 톱 플레이트 (22) 와, 처리액에 의한 기판 (9) 의 처리와 병행하여, 기판 (9) 의 회전 방향과 동일한 방향으로 회전하는 톱 플레이트 (22) 의 상면 (224) 에 액체를 공급함으로써, 컵부 (4) 의 내주면 (412) 상에 기판 (9) 의 회전 방향과 동일한 방향으로 회전하는 선회 액막 (95) 을 형성하는 액막 형성부 (24) 를 구비한다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 으로부터 비산된 처리액과 컵부 (4) 의 충돌에 의해서 발생되는 비말이, 기판 (9) 에 부착되는 것을 억제할 수 있다. |
