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发明名称 POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR100660381(B1) 申请公布日期 2006.12.21
申请号 KR20010008882 申请日期 2001.02.22
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;C08F222/00;C08F222/06;C08F230/08;C08F232/08;C08K5/00;C08L35/00;C08L35/02;C08L43/04;C08L45/00;G03F7/004;G03F7/075;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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