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发明名称
包含具有自组装单层之光学元件之极紫外光微影投射装置,具有自组装单层之光学元件,应用自组装单层之方法,装置制作方法及其制作之装置
摘要
本发明揭示一种极紫外光微影装置,其包括一光学元件,改良该光学元件之表面以减少由分子污染所导致反射性减少之效应,改良该表面俾使其包括一自组装单层。
申请公布号
TW200410050
申请公布日期
2004.06.16
申请号
TW092115987
申请日期
2003.06.12
申请人
ASML公司
发明人
罗夫 刻特;佳库博 温登斯
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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