发明名称 包含具有自组装单层之光学元件之极紫外光微影投射装置,具有自组装单层之光学元件,应用自组装单层之方法,装置制作方法及其制作之装置
摘要 本发明揭示一种极紫外光微影装置,其包括一光学元件,改良该光学元件之表面以减少由分子污染所导致反射性减少之效应,改良该表面俾使其包括一自组装单层。
申请公布号 TW200410050 申请公布日期 2004.06.16
申请号 TW092115987 申请日期 2003.06.12
申请人 ASML公司 发明人 罗夫 刻特;佳库博 温登斯
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰