HARDMASK COMPOSITION METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERNS INCLUDING THE PATTERNS
摘要
하기 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 첨가제, 그리고 용매를 포함하는 하드마스크 조성물을 제공한다. 또한 상기 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 방법에 따른 반도체 집적회로 디바이스를 제공한다. [화학식 1]상기 화학식 1에서, A, A′, A″, L, L′, X, X′, m 및 n은 명세서에서 정의한 바와 같다.