| 发明名称 |
METHOD FOR WASHING SUBSTRATE AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1128431(A) |
申请公布日期 |
1999.02.02 |
| 申请号 |
JP19970189467 |
申请日期 |
1997.07.15 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OTA KATSUHIRO;HARA KOJI;ITO HARUO |
| 分类号 |
B08B3/04;C11D7/08;C11D7/18;C11D7/32;H01L21/304;(IPC1-7):B08B3/04 |
主分类号 |
B08B3/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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