PROCESS FOR TUNGSTEN DEPOSITION BY PULSED GAS FLOW CVD,申请号KR20047009362-传众专利搜索

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发明名称	PROCESS FOR TUNGSTEN DEPOSITION BY PULSED GAS FLOW CVD
摘要
申请公布号	KR20040068591(A)	申请公布日期	2004.07.31
申请号	KR20047009362	申请日期	2002.07.16
申请人		发明人
分类号	C23C16/455;C23C16/14	主分类号	C23C16/455
代理机构		代理人
主权项
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