发明名称 DETECTION DEVICE EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING SAME
摘要 대상의 후방 측부 상에 제공된 마크를 검출하는 검출 디바이스로서, 상기 검출 디바이스는 대상의 표면 측부로부터 마크를 검출하도록 구성된 제 1 검출 유닛; 대상의 표면 위치를 검출하도록 구성된 제 2 검출 유닛; 및 프로세싱 유닛을 포함한다. 프로세싱 유닛은 상기 제 1 검출 유닛에 의해서 검출된 상기 마크의 위치와 관련하여 획득된 제 1 포커스 위치와 상기 제 2 검출 유닛에 의해서 검출된 상기 표면 위치와 관련하여 획득된 제 2 포커스 위치 사이의 차이를 기초로 상기 대상의 두께를 결정한다.
申请公布号 KR101672576(B1) 申请公布日期 2016.11.03
申请号 KR20130124407 申请日期 2013.10.18
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 마에다 히로노리
分类号 G03F7/207;G01B11/06;H01L21/027;H01L21/66 主分类号 G03F7/207
代理机构 代理人
主权项
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