发明名称 |
基板へのシリコン注入およびそのためのシリコン前駆体組成物の提供 |
摘要 |
組成物、システム、方法は基板にシリコンおよび/またはシリコンイオンを注入するために記載され、対応するシリコン前駆体からシリコンおよび/またはシリコンイオンの発生、ならびに基板へのシリコンおよび/またはシリコンイオンの注入を含む。 |
申请公布号 |
JP2016534560(A) |
申请公布日期 |
2016.11.04 |
申请号 |
JP20160534851 |
申请日期 |
2014.08.14 |
申请人 |
インテグリス・インコーポレーテッド |
发明人 |
タン,イン;スウィーニー,ジョセフ・ディー;チェン,ティエンニウ;メイヤー,ジェームズ・ジェイ;レイ,リチャード・エス;ビル,オレグ;イェデイブ,シャラド・エヌ;カイム,ロバート |
分类号 |
H01L21/265;H01L21/22 |
主分类号 |
H01L21/265 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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