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发明名称
涂布膜之乾燥方法及光学薄膜
摘要
本发明系关于涂布膜之乾燥方法,其目的为安定制造出厚度偏差少之涂布膜。于行进中之长形支撑体10涂布涂布液而形成的涂布膜11之乾燥方法中,于长形支撑体涂布涂布液后,立刻将溶剂之蒸发速度保持于0.1g/m^2.s以下来将涂布膜11乾燥。较佳者为在刚涂布后之涂布膜11之行进路上,与涂布膜11隔着一定空隙配置板20,以控制涂布液之蒸发速度。
申请公布号
TW200417421
申请公布日期
2004.09.16
申请号
TW093105670
申请日期
2004.03.04
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
小松原诚;井上龙一;太田美绘;土本一喜;近藤诚司;增田友昭
分类号
B05D5/00
主分类号
B05D5/00
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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