发明名称 涂布膜之乾燥方法及光学薄膜
摘要 本发明系关于涂布膜之乾燥方法,其目的为安定制造出厚度偏差少之涂布膜。于行进中之长形支撑体10涂布涂布液而形成的涂布膜11之乾燥方法中,于长形支撑体涂布涂布液后,立刻将溶剂之蒸发速度保持于0.1g/m^2.s以下来将涂布膜11乾燥。较佳者为在刚涂布后之涂布膜11之行进路上,与涂布膜11隔着一定空隙配置板20,以控制涂布液之蒸发速度。
申请公布号 TW200417421 申请公布日期 2004.09.16
申请号 TW093105670 申请日期 2004.03.04
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 小松原诚;井上龙一;太田美绘;土本一喜;近藤诚司;增田友昭
分类号 B05D5/00 主分类号 B05D5/00
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本