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发明名称
使用曝光源及反射表面制造光学薄膜之方法及系统
摘要
本发明系关于一种用于制造诸如用于光校准之光学薄膜(40)之曝光系统(5),其中光学薄膜(40)具有感光层(20)及基材(10)。曝光系统(5)自光源(1)将曝光光束导引通过光学薄膜(40),接着再使用反射表面(58)以将曝光能量往回反射通过光学薄膜(40),以增进或反之进一步调节感光层(20)之光反应。
申请公布号
TW200417823
申请公布日期
2004.09.16
申请号
TW092119980
申请日期
2003.07.22
申请人
柯达公司
发明人
米山东;大卫 凯思勒;梁隆冠;石川智弘
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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