发明名称 使用曝光源及反射表面制造光学薄膜之方法及系统
摘要 本发明系关于一种用于制造诸如用于光校准之光学薄膜(40)之曝光系统(5),其中光学薄膜(40)具有感光层(20)及基材(10)。曝光系统(5)自光源(1)将曝光光束导引通过光学薄膜(40),接着再使用反射表面(58)以将曝光能量往回反射通过光学薄膜(40),以增进或反之进一步调节感光层(20)之光反应。
申请公布号 TW200417823 申请公布日期 2004.09.16
申请号 TW092119980 申请日期 2003.07.22
申请人 柯达公司 发明人 米山东;大卫 凯思勒;梁隆冠;石川智弘
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国