Process for the development of polymeric high temperature-resistant relief structures obtained by the cross-radiation cross-linking of prepolymers.
摘要
Ein verbessertes Entwicklungsverfahren für Reliefstrukturen auf der Basis von strahlungvernetzten Polymervorstufen hochwärmebeständiger Polymere, in dem als Entwicklerflüssigkeit ein aliphatisches oder cycloaliphatisches Keton mit 3 bis 7 Kohlenstoffatomen verwendet wird, zeichnet sich durch schnelle und vollständige Entfernung von löslichem Polymermaterial vom Substrat bei gleichzeitig minimaler Aggressivität gegenüber den strahlungsvernetzten Polymerstrukturen aus.
申请公布号
EP0111799(A1)
申请公布日期
1984.06.27
申请号
EP19830112161
申请日期
1983.12.03
申请人
MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG
发明人
MERREM, HANS-JOACHIM, DR.;NEISIUS, KARLHEINZ, DR.;KLUG, RUDOLF, DR.;HARTNER, HARTMUT, DR.