| 主权项 |
1.一种含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中:鼻托架之架杆区分鼻垫枢设区及磁性吸附元件固设区,于鼻垫枢设区端部枢设鼻垫,于磁性吸附元件固设区固设磁性吸附元件;附属镜架中梁向后延伸之延伸部设置磁性吸附元件,藉由延伸部跨过眼镜的中梁,与鼻托架磁性吸附元件固设区之磁性吸附元件吸附定位。2.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之鼻垫枢设区与磁性吸附元件固设区系以鼻垫上端对应至架杆处为界分点。3.如申请专利范围第2项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之架杆可为一体成型设计,而于两端各形成鼻垫枢设区,于两侧鼻垫枢设区间为磁性吸附元件固设区。4.如申请专利范围第3项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件固设区两侧对应处可各设置一磁性吸附元件。5.如申请专利范围第3项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件固设区可于中央处设置单一磁性吸附元件。6.如申请专利范围第4或5项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附件元件设置位置可与中梁等高。7.如申请专利范围第4或5项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附件元件之设置位置可略低于中梁。8.如申请专利范围第2项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架可为二对应之架杆,而以鼻垫上端对应至架杆处为界分点,下端为鼻垫枢设区,上端至架杆之固设点间为磁性吸附元件固设区。9.如申请专利范围第8项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件位置可与中梁等高。10.如申请专利范围第8项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件位置可略低于中梁。11.如申请专利范围第2项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架可为与中梁一体成型之架杆,而两侧以鼻垫上端对应至架杆处为界分点,下端为鼻垫枢设区,上端至架杆之固设点间为磁性吸附元件固设区。12.如申请专利范围第11项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件之位置可与中梁等高。13.如申请专利范围第11项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件之位置可略低于中梁。14.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架之磁性吸附元件可被包覆于磁性座内,磁性座再固设于鼻托架处。15.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中鼻托架可圈围成框状,而磁性吸附元件即固设于框内。16.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部可为单一之设计。17.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部可为复数个之设计。18.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部可为一部份跨过眼镜中梁之设计。19.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部可为全部跨过眼镜中梁之设计。20.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部可由附属镜架之中梁直接形成。21.如申请专利范围第1项所述之含磁性吸附元件眼镜鼻托架与附属镜架之固设构造,其中附属镜架之延伸部系由附属镜架之中梁另设一延伸部。图式简单说明:第一图系本创作第一实施例装设于眼镜上之立体外观图。(代表图)第二图系本创作第二实施例装设于眼镜上之立体外观图。第三图系本创作第三实施例装设于眼镜上之立体外观图。第四图系本创作第三实施例装设于眼镜上之局部剖面图。第五图系本创作第四实施例装设于眼镜上之局部剖面图。第六图系本创作第五实施例装设于眼镜上之立体外观图。第七图系本创作第六实施例装设于眼镜上之立体外观图。第八图系本创作第七实施例装设于眼镜上之立体外观图。第九图系本创作第八实施例装设于眼镜上之立体外观图。第十图系本创作第一实施例固设区区域之立体外观图。第十一图系本创作第三实施例固设区区域之立体外观图。 |
