发明名称 相位差薄膜及其制造方法
摘要 提供一种相位差层之配向方向受到高精度控制、且制造成本低之相位差薄膜及其制造方法。参照图1做说明。首先,准备一于透明基材10上积层着光学异向性层11之附基材之光学异向性层12。其次,于光学异向性层11上涂布溶液(含有液晶性化合物以及会和偏光紫外线反应之聚合物)后加以乾燥。接着照射偏光紫外线使得该液晶性化合物进行配向,进而依必要性照射非偏光紫外线使得该液晶性化合物交联,以制作出于光学异向性层11上直接形成了相位差层13之相位差薄膜1。
申请公布号 TW200419198 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW093101714 申请日期 2004.01.27
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 首藤俊介;小林弘明;松永卓也
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本