| 主权项 |
1.一种用以制造具有被电沉积于铜箔消光侧上之的铜黏合加强处理电解方法,该方法包含:(a)提供一中心箔,系经由于第一电沉积区段于第一物质移转条件下将电流由一次阳极通过含铜离子之循环中的主电解液至与一次阳极隔开的旋转中的转鼓阴极,该第一物质移转条件包括第一电流密度,可有效于阴极上电沉积具有细粒显微结构之底铜箔以及具有显微峰及显微谷之消光面;(b)将中心箔送至第二电沉积区段,该区段有二次阳极系与中心箔之消光面隔开;以及(c)将含铜离子之二次电解液流以层流流速流入二次阳极与中心箔间之间隙;(d)于第二电沉积区段于第二物质移转条件下,将电流由二次阳极通过流动中的电解液通至中心箔,该第二物质移转条件包括大于第一电流密度且于或接近极限电流密度之第二电流密度,其提供于消光面上电沉积第一铜层之物质移转,该物质移转系比第一电沉积区段差,第一铜层具有柱状显微凸起由消光面向外伸出;(e)将具有第一层沉积区上之中心箔送至第三电沉积区段,第三电沉积区段具有三次阳极系与铜箔上的第一层隔开;(f)将二次电解液由第二电沉积区段以层流流速流入三次阳极与第一层间之间隙;以及(g)将电流于第三物质移转条件下,由三次阳极流经电解液至由第一层沉积其上之中心泊上,该第三物质移转条件包括比第二电流密度更低的第三电流密度,其提供比第二电沉积区段更佳的物质移转,可有效用以于第一层上电沉积机械性质强力之第二铜箔其包囊且随形于第一层之表面外廓。2.如申请专利范围第1项之方法,其中二次阳极位置毗邻一次阳极之尾端部,三次阳极位置毗邻二次阳极之尾端部,中心箔于转鼓阴极串列送至第二及第三电沉积区段,主电解液由第一电沉积区段串列送至第二及第三电沉积区段,以及二次电解液系注入主电解液位在一次阳极之尾端部与二次阳极之头端部间之一点。3.一种铜护套积层板,包含一聚合物基材以及经由如申请专利范围第1项制造的铜箔,其中铜箔之消光侧系经由第一及第二层黏合至基材。4.如申请专利范围第1项之方法,进一步包括将一铜黏合加强处理电沉积于中心箔之消光侧对侧之光亮侧上。5.一种铜护套积层板,包含一聚合物基材以及如申请专利范围4项之铜箔,其中箔之光亮侧系经由黏合加强处理而黏合至基材。6.如申请专利范围第2项之方法,其中主电解液及二次电解液为含有约60至110克/升铜离子以及约40-150克/升硫酸之水溶液,以及该电解液系维持于约100度F至约180度F之温度。7.如申请专利范围第2项之方法,其中第一电流密度系由约20至约100安/平方厘米,第二电流密度系由约500至约700安/平方厘米以及第三电流密度系由约80至约120安/平方厘米。8.如申请专利范围第6项之方法,其中电解液进一步包括一或多种额外作用剂。9.一种转鼓阴极机器,包含一转鼓阴极;一一次阳极与阴极隔开且伸展环绕部分阴极,一次阳极有一前端部及一尾端部,一次电解液供给装置用以以第一速度循环电解液于介于阴极与一次阳极间之第一间隙;第一电流供应装置用以以第一电流速度将直流电由一次阳极导引通过一次电解液至阴极;一二次阳极,具有一前端部及一尾端部,二次阳极系与阴极隔开且与一次阳极之尾端部分开但毗邻;二次电解液供给装置用于一比第一速度更高的第二速度,让二次电解液于二次阳极与阴极间的第二间隙流动;第二电流供应装置,用以以比第一电流密度更高的第二电流密度将直流电由二次阳极送至阴极;一三次阳极其具有一前端部及一尾端部,三次阳极系与二次阳极之尾端部分开但毗邻且与阴极隔开而提供一第三间隙介于阴极与三次阳极间用以容纳流动于第二间隙的电解液;第三电流供应装置用以以比第二电流密度更低的第三电流密度让直流电由三次阳极流至阴极;以及电解液撤出装置用以由毗邻三次阳极尾端部之第三间隙撤出电解液。10.如申请专利范围第9项之转鼓阴极机器,其中第一电流密度系由约20至约100安/平方厘米,第二电流密度系由约500至约700安/平方厘米以及第三电流密度系由约80至约120安/平方厘米。图式简单说明:第1图举例说明根据本发明制造处理铜箔成品之较佳装置;第2图说明本发明之转鼓阴极之放大部分侧视图,显示第1图所示装置之三个沉积区段;第3图为第2图装置之放大部分侧视图,说明二次电解液注入循环一次电解液,而将氧气气泡由转鼓阴极之箔外表面扫除;第4图为中心箔消光侧表面之显微相片(1000倍放大);第5图为第4图之箔于沉积本发明之树状层之后之表面之显微相片(1000倍放大);以及第6图为第5图之箔于沉积本发明之包囊层后之表面之显微相片(1000倍放大)。 |
