发明名称 SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 기판처리장치(FPA)는 공급롤러(5b), 챔버(CB) 및 회수롤러(6b)를 가진다. 수지필름이나 스텐인리스박으로 이루어지는 가요성의 기판(S)은 공급롤러(5b)로부터 송출되고, 챔버(CB)의 안을 통과하여, 회수롤러(6b)에 권취된다. 챔버(CB)의 안에서는 전사장치(11)에 의해 기판(S)에 액이 도포된다. 공급롤러(5b)는 기판(S)의 이송방향(Y)과 직교하는 방향(X)으로 연장하는 제1 레일(3)을 따라서 이동한다. 회수롤러(6b)는 공급롤러(5b)와 동기적으로 제2 레일(4)을 따라서 이동한다. 이들 이동에 수반하여, 기판(S)은 챔버(CB)로 출입한다. 다른 장치(FPA2)의 챔버(CB)의 안에서는 플라스마 장치(12)에 의해 기판(S)이 처리된다.
申请公布号 KR20160074682(A) 申请公布日期 2016.06.28
申请号 KR20167016256 申请日期 2012.02.22
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 HAMADA TOMOHIDE;KIUCHI TOHRU
分类号 H01L21/67;B05B13/04;B05B15/04;B05C1/08;B65H23/032;H01L21/677 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
地址