发明名称 訂正手段を備えたパルス処理回路
摘要 本発明は、変換材料の1つ(例えば、放射線検出器の画素(11))において入射する光子(X)により生成された電流パルス(CP)の処理のための方法及びパルス処理回路(100)に関する。基準からのパルス形状のズレが検出され、高カウント率におけるパイルアップ効果及び/又は周辺画素の間の電荷共有によるパルスのくずれを識別するために使用される。ズレの検出は、例えば、パルス成形器(110)で、電流パルス(CP)からの双極性成形パルス及び/又は相互に比較可能な異なる形状の2つの成形パルスを生成することにより実現されてもよい。
申请公布号 JP2016522891(A) 申请公布日期 2016.08.04
申请号 JP20160509404 申请日期 2014.04.17
申请人 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKONINKLIJKE PHILIPS N.V. 发明人 デル,ハイナー;エンゲル,クラウス ユルゲン;ヘルマン,クリストフ;ステッドマン,ブッカー ロジャー;レッセル,エヴァルト
分类号 G01T1/17 主分类号 G01T1/17
代理机构 代理人
主权项
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