液浸曝光制程用光阻材料及使用该材料形成光阻图型之方法

摘要

本发明系提供含有树脂成分及该树脂成分之交联剂成分，且该交联剂成分对液浸媒体系难溶性之液浸曝光制程用负型光阻材料，及使用该材料形成光阻图型之方法。如此可同时防止液浸曝光制程中，特别是至少于微影曝光用光线到达光阻膜之前，于光阻膜上介有折射率高于空气但低于光阻膜之一定厚度的液体状态下，进行曝光以提升光阻图型解像度之液浸曝光制程中，液浸曝光时光阻膜变资及所使用液体变质，而能利用液浸曝光形成高解像性光阻图型。