发明名称 Konfokales 4-Pi-Mikroskop und Verfahren zur konfokalen 4-Pi-Mikroskopie
摘要 Verfahren zur konfokalen 4-Pi-Mikroskopie, gekennzeichnet durch folgende Schritte: • Kohärentes Beleuchten einer Probe von zwei Seiten durch je ein Objektiv mit Beleuchtungslicht, das zumindest eine Beleuchtungswellenlänge aufweist, wobei durch Interferenz des Beleuchtungslichts in der Probe eine stehende Beleuchtungswelle mit einem Beleuchtungs-Hauptmaximum und mit Beleuchtungs-Nebenmaxima erzeugt wird; • Detektieren des von der Probe ausgehenden Detektionslichtes, das zumindest eine Detektionswellenlänge aufweist, durch die beiden Objektive hindurch, wobei das Detektionslicht zur Interferenz gebracht wird und dadurch in der Probe ein Detektionsmuster mit einem Detektions-Hauptmaximum und mit Detektions-Nebenmaxima derart erzeugt wird, dass die Beleuchtungs-Nebenmaxima und die Detektions-Nebenmaxima sich an unterschiedlichen Orten befinden; und • Markieren der Probe mit zumindest einem Fluoreszenzfarbstoff, der derart ausgewählt ist, dass das Verhältnis von Beleuchtungswellenlänge zu Detektionswellenlänge im Bereich von 0,5 bis 0,9 oder im Bereich von 0,6 bis 0,8 oder bei 0,75 liegt; • Vorsehen einer Detektionslochblende, deren Öffnungsdurchmesser kleiner als 1 Airyscheibe oder von 0,7 bis 0,8 Airyscheiben oder von 0,7 Airyscheiben ist.
申请公布号 DE10300157(B4) 申请公布日期 2016.08.25
申请号 DE2003100157 申请日期 2003.01.07
申请人 Leica Microsystems CMS GmbH 发明人 Bewersdorf, Jörg;Gugel, Hilmar
分类号 G02B21/00;G02B21/06 主分类号 G02B21/00
代理机构 代理人
主权项
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