| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA TREATING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11251299(A) |
申请公布日期 |
1999.09.17 |
| 申请号 |
JP19980050303 |
申请日期 |
1998.03.03 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
WATANABE SEIICHI;KADOYA MASAHIRO;FURUSE MUNEO;TAMURA HITOSHI |
| 分类号 |
H01L21/302;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;H05H1/46;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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