发明名称 等离子腐蚀反应器及用于新出现的膜的方法
摘要 一种等离子腐蚀反应器(20)包括反应室(22),反应室具有接地上电极(24)、固定到高频电源(30)和低频电源(32)的下电极(28)、位于上下电极之间且可以具有浮置电位的外围电极(26)。稀土磁体(46,47)用于建立磁场,用于限制反应室(22)内产生的等离子体。等离子腐蚀反应器(20)能够腐蚀用于高密度半导体器件的新出现的膜。
申请公布号 CN1232601A 申请公布日期 1999.10.20
申请号 CN97197108.0 申请日期 1997.01.23
申请人 泰格尔公司 发明人 斯蒂芬·P·德奥尼拉斯;艾尔弗德·科弗;罗伯特·C·韦尔
分类号 H05H1/00 主分类号 H05H1/00
代理机构 柳沈知识产权律师事务所 代理人 黄敏
主权项 1.一种等离子腐蚀反应器,包括:反应室;第一电极;第二电极;所说第一电极是一个电浮置或接地的电极;与所说第二电极相连的第一电源,其产生第一频率的功率;及与所说第二电极相连的第二电源,其产生第二频率的功率。
地址 美国加利福尼亚州