发明名称 | 等离子腐蚀反应器及用于新出现的膜的方法 | ||
摘要 | 一种等离子腐蚀反应器(20)包括反应室(22),反应室具有接地上电极(24)、固定到高频电源(30)和低频电源(32)的下电极(28)、位于上下电极之间且可以具有浮置电位的外围电极(26)。稀土磁体(46,47)用于建立磁场,用于限制反应室(22)内产生的等离子体。等离子腐蚀反应器(20)能够腐蚀用于高密度半导体器件的新出现的膜。 | ||
申请公布号 | CN1232601A | 申请公布日期 | 1999.10.20 |
申请号 | CN97197108.0 | 申请日期 | 1997.01.23 |
申请人 | 泰格尔公司 | 发明人 | 斯蒂芬·P·德奥尼拉斯;艾尔弗德·科弗;罗伯特·C·韦尔 |
分类号 | H05H1/00 | 主分类号 | H05H1/00 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 黄敏 |
主权项 | 1.一种等离子腐蚀反应器,包括:反应室;第一电极;第二电极;所说第一电极是一个电浮置或接地的电极;与所说第二电极相连的第一电源,其产生第一频率的功率;及与所说第二电极相连的第二电源,其产生第二频率的功率。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |