发明名称 曝光装置、曝光方法以及器件制造方法
摘要 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域,所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
申请公布号 CN101354540A 申请公布日期 2009.01.28
申请号 CN200810160954.3 申请日期 2004.02.26
申请人 株式会社尼康 发明人 长坂博之
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 郭放
主权项 1、一种曝光装置,通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板,该曝光装置包括:把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统;为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构;在多个位置上同时进行基板上的液体回收的液体回收机构,上述液体回收机构根据液体回收位置以不同的回收力来回收液体。
地址 日本东京