发明名称 SYSTEM AND METHOD FOR DAMAGE REDUCTION IN LIGHT-ASSISTED PROCESSES
摘要 반도체 디바이스를 형성하기 위한 방법 실시예는, 손상된 표면을 갖는 유전체 층을 제공하는 단계 및 유전체 층의 손상된 표면을 보수하는 단계를 포함한다. 손상된 표면을 보수하는 단계는, 유전체 층의 손상된 표면을 전구체 화학물질에 노출시키는 단계, 광 에너지를 사용하여 전구체 화학물질을 활성화시키는 단계, 및 전구체 화학물질을 활성화시키는 동안 광 에너지의 스펙트럼을 걸러내는 단계를 포함한다.
申请公布号 KR101632513(B1) 申请公布日期 2016.06.21
申请号 KR20140191003 申请日期 2014.12.26
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 린 이훙;린 쉥신;훙 잉치에;후앙 유팅;리 츠리앙
分类号 H01L21/02;H01L21/3105 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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