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Procedimiento para fabricar una preforma primaria para una fibra óptica, utilizando un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma interna, en el que precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar se suministran al interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco, una zona reactiva en forma de un plasma se desplaza en vaivén a lo largo de la longitud del tubo de sustrato de vidrio hueco mencionado anteriormente entre un punto de inversión próximo al lado de suministro y un punto de inversión próximo al lado de descarga del tubo de substrato hueco, en el que el tubo de sustrato se coloca en un horno y en el en la zona reactiva antes mencionada se crean condiciones tales que uno o más conjuntos de capas de vidrio que se componen de, al menos, dos capas de vidrio separadas, sean depositadas en el interior del tubo de sustrato mencionado anteriormente, caracterizado dicho procedimiento porque comprende la siguiente etapa de: definir condiciones de deposición como una función de la posición de la zona reactiva, vista en la dirección longitudinal del tubo de sustrato de vidrio hueco, para la deposición de, al menos, una capa de vidrio, con las condiciones de deposición así definidas difiriendo mutuamente dentro de la deposición de la antes mencionada capa de vidrio. |
