リソグラフィ装置のレチクル冷却システム

摘要

【課題】リソグラフィ装置のパターニングデバイスの温度を制御するためのシステムを提供する。【解決手段】システムは、パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、パターニングデバイスにわたる実質的に均一な温度分布をもたらすように構成されたレチクル冷却システムと、を含む。レチクル冷却システムは、第１の方向及び第２の方向に沿って、パターニングデバイスの表面を横切る第１及び第２のガス流を提供するように構成された第１及び第２のガス入口アレイを含み、第１の方向及び第２の方向は、互いに反対方向である。レチクル冷却システムはさらに、第１及び第２のガス入口アレイの動作を制御するように構成された切換え制御システムを含む。【選択図】図２３Ａ