| 摘要 |
묘화 장치는, 제1 방향으로 피치를 가지고 배열되고, 각각 하전 입자선을 기판에 조사하도록 구성되는 복수의 하전 입자 광학계와, 기판을 유지하고, 제1 방향에 직교하는 제2 방향으로 하전 입자 광학계에 대하여 이동되도록 구성되는 스테이지와, 샷 영역의 제1 방향에서의 어레이 피치를 Ps라고 하고, 하전 입자 광학계 각각에 의한 묘화 영역 각각의 제1 방향에서의 폭을 SW라고 하고, 묘화 영역의 제1 방향에서의 어레이 피치를 Pc라고 하고, α, β는 자연수라고 할 때에, SW=Pc/α=Ps/β로 주어지는 관계를 충족시키도록, 하전 입자 광학계 각각에 대하여 묘화를 위한 하전 입자선을 결정하도록 구성되는 컨트롤러를 포함한다. |
