| 发明名称 |
PROCEDE DE FORMATION SOUS UNE COUCHE MINCE D'UN PREMIER MATERIAU DE PORTIONS D'UN AUTRE MATERIAU ET/OU DE ZONES DE VIDE |
| 摘要 |
<P>L'invention concerne un procédé de formation d'une zone de vide sous une couche d'un matériau donné comprenant les étapes suivantes : former sur un substrat un empilement d'une couche photosensible et d'une couche du matériau donné ; insoler une portion de la couche photosensible ou son complément selon que la couche photosensible est positive ou négative par un faisceau d'électrons passant à travers la couche du matériau donné ; et éliminer ladite portion de la couche photosensible.</P>
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| 申请公布号 |
FR2858876(A1) |
申请公布日期 |
2005.02.18 |
| 申请号 |
FR20030050425 |
申请日期 |
2003.08.12 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS SA;COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
CORONEL PHILIPPE;LAPLANCHE YVES;PAIN LAURENT |
| 分类号 |
G03F7/11;G03F7/20;G03F7/36;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/3205;H01L21/336;H01L21/768;H01L27/12;H01L29/423;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/76 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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