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发明名称 Verfahren zum Bilden eines Zwischenschicht-Isolierfilms
摘要
申请公布号 DE19608476(A1) 申请公布日期 1997.02.13
申请号 DE19961008476 申请日期 1996.03.05
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 MATSUURA, MASAZUMI, TOKIO/TOKYO, JP
分类号 H01L21/31;H01L21/3105;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/316 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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