发明名称 立方氮化硼烧结体
摘要 一种抗缺口性能优良的cBN烧结体,它通过粘结相将cBN粒子加以粘结。粘结相具有二维连续分布结构,其包含的成分如说明书所述。cBN含量为45—70%体积%。所述粘结相厚度的平均值小于或等于1.5μm,而且其标准偏差小于或等于0.9μm,同时所述cBN粒子的平均尺寸为2—6μm(起止两个尺寸包括在内)。所述粘结相厚度的平均值小于或等于1.0μm且其标准偏差小于或等于0.7μm时,所述cBN粒子的平均尺寸不小于0.01μm但小于2.0μm。
申请公布号 CN1242350A 申请公布日期 2000.01.26
申请号 CN99110635.0 申请日期 1999.07.22
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 深谷朋弘;久木野晓;白石顺一
分类号 C04B35/5831;C22C29/16 主分类号 C04B35/5831
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 段承恩
主权项 1.一种包含cBN粒子和一种粘结所述cBN粒子的粘结相的cBN烧结体,所述粘结相为二维连续分布;所述粘结相至少包括下列物质之一种:周期表中的4a、5a、或6a族过渡金属的碳化物、氮化物、碳氮化物,或者硼化物;Al的氮化物、硼化物,或者氧化物;至少一种Fe、Co、或Ni的碳化物、氮化物、碳氮化物、或硼化物;以及一种上述这些物质的相互固溶体;所述粘结相的厚度平均值为小于或等于1.5μm,并且,其标准偏差小于或等于0.9μm;所述cBN的体积分数为45-70%:而且所述cBN粒子的平均尺寸为2-6μm(2μm和6μm包括在内)。
地址 日本大阪