| 发明名称 | 抛光方法及在该抛光方法中使用的抛光膜 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于提供一种对防止抛光后期的抛光效率的降低有效的抛光方法。本发明人为解决上述课题而提供的抛光方法其特征在于，一边将抛光液的pH维持在大于等于2小于7一边进行抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN1905989A | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
| 申请号 | CN200480040914.5 | 申请日期 | 2004.12.09 |
| 申请人 | 阪东化学株式会社 | 发明人 | 中原正贵;前山胜昭;井上滋木 |
| 分类号 | B24B1/00(2006.01);B24B19/00(2006.01);B24D3/02(2006.01);B24D3/28(2006.01);B24D11/00(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | B24B1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 段承恩;杨光军 |
| 主权项 | 1.一种抛光方法，是使抛光液介在于抛光膜和被抛光物之间来对被抛光物进行抛光的抛光方法，其特征在于，一边将抛光时的抛光液的pH维持在大于等于2小于7一边进行抛光。 | ||
| 地址 | 日本兵庫県 | ||