发明名称 |
研磨抛光用磨粒流循环系统外置式专用搅拌分离器 |
摘要 |
本实用新型涉及一种研磨抛光用磨粒流循环系统外置式专用搅拌分离器,包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌桨,所述的搅拌桨由装在搅拌桶上方的电机驱动,所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口,所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口,所述搅拌桶的底壁上设有排污口,所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通,所述的搅拌桶的底壁的外侧上装有永磁体,所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。本实用新型的有益效果为:(1)磨料能够高效地循环使用;(2)减少了金属颗粒对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏;(3)方便了及时排污和对于搅拌桶的清洗。 |
申请公布号 |
CN201175872Y |
申请公布日期 |
2009.01.07 |
申请号 |
CN200820084252.7 |
申请日期 |
2008.03.10 |
申请人 |
浙江工业大学 |
发明人 |
计时鸣;张生昌;张宪;郑水华;张金海;袁巧玲;张利;王宗槐;周佳 |
分类号 |
B24B57/02(2006.01) |
主分类号 |
B24B57/02(2006.01) |
代理机构 |
杭州天正专利事务所有限公司 |
代理人 |
王兵;袁木棋 |
主权项 |
1、研磨抛光用磨粒流循环系统外置式专用搅拌分离器,包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌浆,所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动,所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口,所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口,所述搅拌桶的底壁上设有排污口,所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通,其特征在于:所述的搅拌桶的底壁的外侧上装有永磁体,所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。 |
地址 |
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区 |