用于化学机械平坦化的含有二羟乙基甘胺酸/三羟甲基甲基甘胺酸的组合物及方法

摘要

本发明说明一种用于化学机械平坦化(或其他研磨)的组合物及其相关方法。该组合物包含研磨剂及三羟甲基甲基甘胺酸型或二羟乙基甘胺酸型化合物。相较于钽和介电材料，该组合物用于铜之移除时具有高度选择性，同时可将CMP的局部凹状扭曲和浸蚀效应降至最低。该组合物可复包含氧化剂，其中该组合物在与金属CMP应用(例如，铜的CMP)有关的方法方面特别有用。