光罩对位曝光方法及光罩组件

摘要

一种光罩对位曝光方法包含以下步骤：利用一第一光罩之一第一图案区于一基板之一光阻层进行曝光，以形成至少一第一曝光区；利用第二光罩之一第二图案区于光阻层进行曝光，以形成一第二曝光区；利用第二光罩之一第三图案区于光阻层进行曝光，以形成一第三曝光区。其中，第一曝光区系位于第二曝光区与第三曝光区之间。本发明亦揭露一种光罩组件。