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发明名称
具有沟槽之复合图案化
摘要
用于印刷基底的系统及技术。在一实施例中,方法包含藉由导入不规则性至具有重覆的线及线之间的空间之中的阵列中,而以实质上任意配置的特征,将基底图案化。
申请公布号
TW200518171
申请公布日期
2005.06.01
申请号
TW093130765
申请日期
2004.10.11
申请人
英特尔股份有限公司
发明人
颜 柏拉多司凯
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
美国
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